Multibeam recibe su primer pedido desde Taiwán para el sistema de litografía MBX

Multibeam Corp. anunció su primer pedido en Taiwán: la Universidad Nacional Tsing Hua (NTHU) ha ordenado el sistema de litografía por haz de electrones multicolumna MBX para apoyar la investigación en fabricación avanzada de semiconductores.

Según GlobeNewswire Inc., la plataforma MBX es el sistema de segunda generación de la compañía y fue introducida recientemente al mercado. La universidad taiwanesa utilizará el equipo para desarrollar nuevos procesos de manufactura y acelerar la integración de chips de próxima generación.

La entrega del sistema está programada para 2027, lo que representará la primera instalación de un equipo Multibeam en territorio taiwanés.

Taiwán es un nodo central en la cadena global de semiconductores, hogar de fabricantes de primer nivel y de universidades de investigación que alimentan la industria de chips a escala mundial. El ingreso de Multibeam a ese mercado con este tipo de acuerdo institucional refuerza el interés académico e industrial en tecnologías alternativas de litografía.

La litografía por haz de electrones es una técnica utilizada para grabar patrones ultrafinos en superficies de silicio, clave en el desarrollo de procesos de fabricación de nodos avanzados. A diferencia de la litografía óptica convencional, ofrece mayor flexibilidad para la creación de prototipos y la exploración de nuevos diseños a escala de investigación.