Intel e ASML alcanzan hito en manufactura con EUV de Alta NA

Intel Foundry (INTC) comenzó la fabricación en alto volumen de sus procesadores Intel Core Ultra Serie 3 —nombre en clave Panther Lake— utilizando la tecnología de litografía High NA EUV de ASML (ASML) sobre el nodo de proceso Intel 18A. Según GlobeNewswire Inc., esto representa la primera producción comercial de chips lógicos en el mundo usando esta generación de litografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica.

Las capas específicas del proceso ya cuentan con doble calificación en las instalaciones de Intel en Oregon, y los productos están siendo enviados a clientes con rendimientos de fabricación equiparables a los obtenidos con la plataforma NXE de ASML, la generación predecesora de esta tecnología.

El avance es relevante para la industria semiconductora porque valida la madurez operativa del High NA EUV en un entorno de producción real, más allá de las fases de desarrollo y prueba. La tecnología permite grabar patrones de circuitos con mayor precisión y a menor escala, lo que es clave para continuar la miniaturización de los chips avanzados.

ASML es el único fabricante mundial de equipos de litografía EUV, lo que convierte a sus sistemas High NA en un eslabón estratégico para cualquier fundición que aspire a competir en los nodos de proceso más avanzados. La habilitación de este equipo en producción masiva podría marcar el ritmo de adopción del sector en los próximos años.

Fuente: GlobeNewswire Inc.